Nawigacja

Media o nas

21.09.2022 Echo Dnia: Metrologia drogą do innowacyjnych zmian w przemyśle. Świętokrzyski Kampus Laboratoryjny szykuje się do pracy dla firm.

Opublikowane przez : Adam Żeberkiewicz

- Metrologia rozwiąże wiele problemów przedsiębiorstw – mówiła Katarzyna Borowicz z Głównego Urzędu Miar podczas seminarium „Metrologiczne wyzwania przemysłu w globalnej gospodarce” w czasie targów Control - Tech w Kielcach. Dużą rolę w dostarczaniu innowacji odegrać ma Świętokrzyski Kampus Laboratoryjny, który już określa pole działań dla przedsiębiorstw.

Na zdjęciu widok sali konferencyjnej. Na sali na szarych krzesłach siedzi kilka osób. Na pierwszym planie, przy mównicy, widać mężczyznę mówiącego do mikrofonu. Nad zdjęciem logo Echa Dnia.

do góry